突破ASIC專用芯片困境離不開芯片超純水設備
伴隨著人工智能、5G、云計算、自動駕駛等技術的不斷發(fā)展，大量的數(shù)據(jù)將會不斷出現(xiàn)。在處理大量數(shù)據(jù)時，基于傳統(tǒng)CPU的計算結構已難以滿足要求。為了更好更快地完成這些任務，我們需要更強大的硬件和芯片。對數(shù)據(jù)進行分析、處理也需要更多的智能算法和模型。根據(jù)目前的需求，各種芯片都出現(xiàn)了。
芯片的應用范圍很廣，可以分為移動終端和服務器終端。常見的服務器端芯片有四種：CPU、GPU、ASIC和FPGA。
ASIC芯片是為滿足用戶對特定電子系統(tǒng)的需求而設計，由根機制成的專用應用芯片，其計算能力和計算效率可以根據(jù)算法需要進行定制，也是固定算法優(yōu)化設計的產(chǎn)物。ASIC芯片模塊可廣泛用于人工智能設備、耗材打印設備、軍用國防裝備等智能終端。
超純水清洗是晶片生產(chǎn)過程中的一個重要環(huán)節(jié)，工件直接與水接觸。如果水質不合格，或者有雜質在水中，將導致設備性能下降，產(chǎn)量下降。保證超純水的品質是中國自主研發(fā)芯片的重要基礎。
常規(guī)超純水生產(chǎn)工藝是使用陰離子樹脂交換設備。這一方法的缺點是，使用一段時間后，樹脂應該經(jīng)常再用。萊特萊德膜分離技術日趨成熟，常采用反滲透工藝，或經(jīng)反滲透、EDI、拋光混床工藝制取超純水，其出水效率可達18.2MΩ，滿足芯片行業(yè)用水需求。
近幾年來，隨著芯片設計在生產(chǎn)工藝上向精密化、小型化發(fā)展，對純水水質提出了越來越高的要求。萊特萊德晶片超純水設備可有效去除水中的二氧化硅、顆粒、細菌、有機物質和微生物，使其達到電子工業(yè)中所使用的純凈水。
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